Prinano宣称其纳米压印工艺无需深紫外光刻器用即可坐褥光子芯片，同期大幅缩短老本。

一家中国初创公司宣称在光子芯片制造领域取得打破，其在不依赖传统深紫外（DUV）光刻系统的情况下，到手坐褥出8英寸光学芯片晶圆。

总部位于杭州的Prinano默示，该公司使用其纳米压印光刻（NIL）时间，到手考证了光子芯片的量产。这种制造交替通过物理相貌将纳米级图案压印到晶圆上，而非通过光学系统进行投影。

据该公司先容，该工艺是与深圳利特拉科技（Shenzhen Litra Technology）市欢完成的，并使用了后者的PL-AS真空气垫纳米压印光刻竖立。Prinano称，该交替“都备销亡”了对DUV光刻器用的需求，同期将制形老本降至传统有谈论的约十分之一。

这一音讯发布之际，由于得回荷兰供应商ASML先进光刻系统的渠说念受限，中国芯片制造商仍在执续寻求替代制造时间。

光子芯片应用于光通讯、传感系统、激光雷达和数据中心等领域。与传统的电子芯片不同，它们诓骗光而非电信号来措置信息。

Prinano默示，那时间维持光子芯片的晶圆级坐褥，并可应用于基于砷化镓、磷化铟和硅光子时间的光通讯及传感竖立。

该公司称，其PL-AS竖立具备亚10纳米线宽折柳率以及晶圆级压力适度才智。关联词，并未流露坐褥量、制造良率或客户发货数据。

纳米压印光刻恒久以来被视为传统光学光刻的潜在替代有谈论，od手机app中国官网入口因为它无需昂然的投影光学系统即可制造极其淡雅的特征。该时间于20世纪90年代由普林斯顿大学领略注解周郁（Stephen Y. Chou）草创。

Prinano创举东说念主葛海雄曾师从周郁，并于2017年创立公司，致力于开拓纳米压印竖立、材料和制造工艺。

连年来，跟着芯片制造商寻求更低老本的制造交替，业界对纳米压印光刻的兴味有所增多。2023年，佳能推出了生意化的纳米压印光刻系统，并将其动作某些先进光刻器用的替代有谈论加以扩展。

尽管长进看好，但分析师们质疑该时间能否达到大规模半导体制造所需的迷糊量和良率。

贪图公司SemiAnalysis此前指出，天然纳米压印光刻竖立可能比先进光刻器用更低廉，但举座经济性取决于残障率、模板坐褥、迷糊量和工艺集成等要素。

Prinano的公告专注于光子芯片而非先进逻辑措置器，这一区别可能使其生意化更容易罢了。光子器件时时依赖光栅、波导和环形谐振器等类似性纳米结构，这些结构十分合适基于压印的制造相貌。

该公司默示，该时间已插足晶圆级坐褥考证阶段，但对于良率、生意部署和制造规模的寂寥考证数据尚未流露。

对于中国半导体产业而言，这一阐扬突显了在得回先进光刻竖立仍受限的配景下，业界正执续努力探索替代制造阶梯。

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